사용설명서

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n
셔터
유형
전자제어 상하주행식 포컬플레인 셔터
속도
1
/8000 - 30초가
1
/3,
1
/2, 1 EV로 증가, 벌브, X250
플래시 동조 속도 X=
1
/250초,
1
/320초 이하의 셔터 속도와 동조(
1
/250과
1
/320
초 사이의 속도로 플래시 범위가 떨어집니다.)
릴리즈
촬영 모드 S ( 싱글 프레임 ), CL ( 저속 연속 ), CH (고속 연속), J (정숙 촬
영), E (셀프 타이머),
MUP (미러 업)
대략적인 촬영 속
도(CIPA 가이드
라인)
• EN-EL3e의 경우:1-7 fps(CL) 또는 7 fps(CH)
• 선택형 MB-D10 멀티 파워 배터리 팩과 EN-EL4a의
경우: 1-7(
CL) 또는 8 fps(CH)
셀프 타이머
2, 5, 10, 20초 간격에서 선택할 수 있음
노출
측광
1005 픽셀 RGB 센서를 사용한 TTL 노출 측광
측광 방식 • 멀티 패턴 측광: 3D-RGB 멀티 패턴 측광Ⅱ(G와 D형 렌
즈), RGB 멀티 패턴 측광Ⅱ(기타 CPU 렌즈), 사용자가
렌즈 정보 제공 시 비 CPU 렌즈와 함께 사용할 수 있는
컬러 멀티 패턴 측광
• 중앙부 중점 측광: 프레임 중앙의 8mm 원에 75% 가중
치 부여.
원의 직경을 6, 10, 13mm로 변경하거나, 프레
임 전체의 평균을 기준으로 가중치를 부여할 수 있음(비
CPU 렌즈를 사용할 경우 8mm로 고정)
• 스팟 측광: 선택된 초점 포인트(비 CPU 렌즈 사용 시 중
앙 초점 영역)를 중심으로 3mm 원(프레임의 약 2%) 측
정
범위(ISO 100,
f/1.4 렌즈,
20℃)
• 멀티 패턴 또는 중앙부 중점 측광: 0-20 EV
• 스팟 측광: 2-20 EV
노출계 연동
CPU와 AI 연동
노출 모드 프로그램 시프트를 이용한 자동 프로그램(e), 셔터 우선
(f), 조리개값 우선(g), 수동(h)
노출 보정
1
/3,
1
/2, 1 EV 간격으로 -5-+5 EV
노출 브라케팅
1
/3,
1
/2,
2
/3, 1 EV 간격으로 2-9 프레임